展商精選丨晶洲裝備，高端濕制程裝備工藝推動(dòng)新型顯示供應(yīng)鏈建設(shè)
2023-07-06 14:12:13
公司簡(jiǎn)介
蘇州晶洲裝備科技有限公司（展位號(hào)：特5F18）2011年成立于蘇州常熟高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)辛莊工業(yè)園，業(yè)務(wù)范圍集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售及售后為一體，專注于平板顯示、光伏、半導(dǎo)體領(lǐng)域的高精密清洗、顯影、濕法刻蝕、光阻剝離等高端濕制程設(shè)備的生產(chǎn)及研發(fā)，并同步延伸相配套的環(huán)保及智能數(shù)據(jù)，如廢液在線回收系統(tǒng)、機(jī)器人運(yùn)用等關(guān)鍵自動(dòng)化系統(tǒng)，是一家具備高新技術(shù)企業(yè)資質(zhì)的高端濕制程裝備及工藝技術(shù)綜合解決方案提供商。
推薦產(chǎn)品
蘇州晶洲裝備科技有限公司以國(guó)際視野、國(guó)產(chǎn)裝備為企業(yè)口號(hào)，在平板顯示領(lǐng)域，從清洗、顯影、刻蝕，到剝離、蒸鍍前清洗，提供了切實(shí)有效的解決方案，以G8.5濕法刻蝕設(shè)備為代表，研發(fā)出清洗機(jī)、顯影機(jī)、濕法刻蝕機(jī)、光阻剝離機(jī)、掩模版清洗機(jī)等一系列濕制程主工藝設(shè)備。
| 項(xiàng)目 | 晶洲產(chǎn)品 | 進(jìn)口裝備 |
| 刻蝕速率均一性 | ≥92% | ≥90% |
| 刻蝕線寬均一性 | ≥92% | ≥90% |
| 線寬誤差 | ±0.8μm | ±0.8μm |
顯影機(jī)
5.Low Running Cost.
濕法刻蝕機(jī)Wet Etcher
濕法蝕刻機(jī)
適用工藝：ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu、Rework……
適用基板尺寸：All Size
適用基板厚度：≥0.3mm
刻蝕類型：Multi-angle Oscilation Type Shower / Dip
設(shè)備類型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made
工藝能力：
1.Within Glass、Glass To Glass、Lot To Lot；
2.No Mura, No Roller Mark, No Contamination and No Scratch；
3.CD Uniformity；
4.CD Loss；
5.Low Running Cost.
光阻剝離機(jī)Stripper
光阻剝離機(jī)
適用工藝：Array，OLED，Rework
適用基板尺寸：All Size
適用基板厚度：≥0.3mm
剝膜類型：Cascade Type Strip Shower
設(shè)備類型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made
工藝能力：
1.No PR, Chemical, Water Residue；
2.No Corrosion；
3.ESD Control；
4.No Mura, No Roller Mark, No Contamination And No Scratch；
掩膜版清洗機(jī)
清洗質(zhì)量：無mura、水痕、銹斑、臟污，無損傷
平坦度：百微米級(jí)
Total Pitch變化：微米級(jí)
Defect數(shù)量：10ea
搬送重復(fù)精度：毫米級(jí)
溫度穩(wěn)定性：±1°（60°以內(nèi)）
超聲波：
4波段復(fù)頻超聲波，頻率可自由切換
