展商精選丨大連華邦，專注氣體純化設備制造及超純氣體供應
2023-05-08 11:15:02
公司簡介
大連華邦化學有限公司（展位號：特4C30）
2013年由多位催化與氣體純化專家與聯合成立的國家高新技術企業，注冊資本5000萬元。華邦化學與多家科研單位建立了科研合作，主要從事超純氣體純化技術的研制與開發。
大連華邦化學有限公司（HPC）超純技術團隊從20世紀60年代在國內率先從事超純氣體分析和制備領域的研究，擁有催化劑、吸附劑、Getter等氣體純化材料的核心技術及研發能力，掌握核心工藝，并將應用在所生產的的純化器之中。
推薦產品
大連華邦擁有各類9N氣體純化器。
產品特點：
1、采用催化，吸附、Getter等技術聯用，保證氣體純化指標。
2、擁有自主知識產權核心催化劑，穩定性強，脫除深度高。
3、穩定性強，全自動運行維護量少。
4、抗意外能力強，短時間斷水、斷電不影響產氣指標。
5、再生周期長，可實現不間斷產氣，在線維修。
PH8系列——氮氣純化器
單項雜質脫除均<1ppb
設備簡介：
1、半導體、LED/激光、太陽能光伏行業：器件制備工藝中外延、擴散、MOCVD、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結等工序設備所需的N?、H?、Ar、NH?等氣體進行純化。
2、光纖行業：對保護氮、氦氣進行終端純化。
3、氣體行業：對氣源氣體進行純化。
4、冷軋行業：對保護氮氣進行純化。
PH9——氮氣純化器
單項雜質脫除均<1ppb
設備簡介：
1、氣體首先通過高溫催化氧化工序，將氣體中的CH?（包括H?、CO）與O?反應轉化為H?O和CO?。
典型應用：
1、半導體、LED、激光、太陽能光伏行業：器件制備工藝中外延、擴散、MOCVD、離子注入等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結等工序中設備所需的超純氮氣終端純化。
2、光纖行業：保護氮、氦氣的終端純化。
PH7——氫氣純化器
單項雜質脫除均<1ppb
典型應用：
1、用于半導體、LED/激光、太陽能光伏行業：在器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等工藝所需超純氫氣、氬氣體終端純化。
PH6系列——氧氣純化器
單項雜質脫除均<1ppb
典型應用：
1、半導體、LED、激光、太陽能光伏行業：器件制備工藝中熱氧化、擴散、MOCVD、等離子干刻等工序所需的超純O?終端純化。
2、光纖行業：光導纖維所需O?的純化。
PH5系列——氬氣、氦氣純化器
單項雜質脫除均<1ppb
1、PH5-H：通過吸附工序，脫除氣體中的O?、H?O、CO?等雜質，通過吸氣柱脫除N?、CH?。
2、PH5-G：氣體通過高溫狀態下的吸氣柱，可深度吸收脫除氣體中的O?、H?O、CO?、CO、H?、CH?、N?等雜質。吸氣柱吸附飽和后，整體更換。
典型應用：
1、用于半導體、LED/激光、太陽能光伏行業：在器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等工藝所需超純氫氣、氬氣體終端純化。
PH21系列——氨氣純化器
單項雜質脫除均<1ppb
工藝介紹：
1、PH21氨氣純化器通過吸附工序，采用雙吸附容器，深度脫除工藝氣體中的O?、H?O、CO?、NMHC，純化再生模式交替進行，提供對工藝氣的連續純化。
2、PH21系列氨氣純化系統通過現場原位再生和先進的技術，以高可靠性。
PH22系列——XCDA純化器
單項雜質脫除均<1ppb
工藝介紹：
1、采用HPC特有純化材料，通過吸附工序，深度脫除氣體中的H?O、CO?、揮發性酸VA、揮發性堿VB、耐熔化合物RC、總有機碳TOC等雜質。多個吸附器交替吸附、再生，實現對原料氣體的連續純化。
PH32/33系列——二氧化碳純化器
單項雜質脫除均<1ppb
工藝介紹：
1、PH32系列采用HPC特有純化材料，通過吸附工序，深度脫除氣體中的。上表中雜質CH?、O?、H?O、H?、CO、揮發性酸VA、揮發性堿VB、耐熔化合物RC、可冷凝有機物Corg、不凝有機物Ncorg等雜質。多個吸附器交替吸附、再生，實現對原料氣體的連續純化。
2、PH32系列獨立氣體純化系統通過現場原位再生和先進的技術，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脫除CO?中的污染雜質，滿足客戶現場需求。
3、PH33系列氣體首先通過高溫催化氧化工序，將氣體中的CH?、還原性雜質與O?反應轉化為H?O和CO?。
4、氣體通過多柱吸附工序深度脫除氣體中的CH?、O?、H?O、H?、CO、揮發性酸VA、揮發性堿VB、耐熔化合物RC、可冷凝有機物Corg、不凝有機物Ncorg等雜質。
5、吸附柱飽和后可通還原性氣體加熱再生，反復使用。
Q9系列——POU純化器
典型應用：
1、電子行業生產線及研發過程：氣體純化。
2、化工研究:烴類、N?、H?純化。
3、分析：色譜載氣純化、測氧儀、露點儀的零點較對。
